您好,欢迎来到皮书数据库!
热点推荐: 双循环
更多>> 课题组动态
更多>> 皮书作者
谢伏瞻
    中国社会科学院学部委员,学部主席团主席,研究员,博士生导师。历任中国社会科学院院长、党组书记,国务院发展中心副主... 详情>>
蔡 昉
    中国社会科学院国家高端智库首席专家,学部委员,学部主席团秘书长,研究员,博士生导师。先后毕业于中国人民大学、中国... 详情>>
李培林
    男,汉族,出生于1955年5月,山东济南人,博士,研究员,全国人民代表大会社会建设委员会副主任委员,中国社会科学... 详情>>

    2020~2021年中国光刻机产业链创新链竞争力分析

    摘要

    光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,是集成电路制造行业的核心设备。本文对光刻机的产业发展路径展开分析,从全球产业链与创新链布局、光刻机技术沿革、阿斯麦(ASML)发展历程、中国的产业政策等多个视角进行梳理,展望中国光刻机产业的未来发展方向。现阶段,中国在光刻机领域仍然面临技术瓶颈,从国家战略层面出发,政府和企业均需要做好光刻机研发“持久战”的准备,保障光刻机产业政策的连贯性。从政策层面出发,一方面,需要推动形成良好的上下游合作关系,提高政策瞄准精度以及重视研发体系构建;另一方面,要推动产业分工,加强开放合作,加快光刻机产业链国产替代进程。

    <<
    >>

    Abstract

    Lithography is known as “the jewel in the crown of semiconductor industry” and is the core equipment of integrated circuit manufacturing industry. This chapter analyzes the development path of lithography industry,analyzes the layout of global industrial chain and innovation chain,the evolution of lithography technology,ASML’s development history,China’s industrial policy and other perspectives,and looks into the future development direction of China’s lithography industry. China is still limited by technical bottlenecks in the field of lithography. From the perspective of national strategy,both the government and enterprises need to be prepared for a “protracted war” in lithography research and development to ensure the coherence of lithography industrial policies. From the perspective of policy,on the one hand,government departments need to promote the formation of good upstream and downstream cooperation,improve the precision of policy targeting and pay attention to the construction of R&D system;On the other hand,it is necessary to promote the industrial division of labor and strengthen the openness and cooperation,accelerate the process of lithography industry chain.

    <<
    >>
    作者简介
    许明:许明,经济学博士,中国社会科学院工业经济研究所国际产业研究室副主任、副研究员,主要研究方向为产业经济。
    <<
    >>
    相关报告