董事会效率与R＆D投入

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董事会效率与R＆D投入

作者：钱晶晶出版日期：2019年02月
报告大小：1.3MB
报告字数：19767 字所属丛书：
所属图书：董事会对研发投入的影响机制研究
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摘要

本章为子研究二，它在子研究一的基础之上进行了扩充和进一步的探讨，即研究了董事会效率对R＆D投入的影响及高管的调节作用。首先，本章验证了董事会效率与R＆D投入之间的主效应关系，接着检验了内部的高管激励、外部的高管市场（高管市场供给、聘请外部高管倾向）对董事会效率与R＆D投入之间关系的调节效应。研究结果表明：①董事会效率的提高有利于促进R＆D投入；②较高的高管激励水平显著增强董事会效率对R＆D投入的促进作用；③较高的高管市场供给程度显著增强董事会效率对R＆D投入的促进作用，反之，高管市场供给不足时，董事会效率对R＆D投入的促进作用会减弱；④聘请外部高管倾向的调节效应会因公司外聘高管倾向的高低水平而产生差异，当公司聘请外部高管倾向处于较低水平时，提高聘请外部高管倾向可以增强董事会效率对企业创新的促进作用。反之，则起到负向调节作用。本章研究内容见图4-1阴影部分。

关键词：	中国 R＆D投入董事会效率

作者简介

钱晶晶:武汉大学管理学博士，南昌大学经济管理学院讲师。主要研究领域为公司治理、企业理论、创新管理等，在《经济管理》、《管理学报》和《科学学与科学技术管理》等国内权威学术期刊上发表论文数篇，主持国家社科基金项目1项、省级重点课题2项，参与国家社科及自科基金项目3项和省级课题多项；参编译著1部，出版学术专著1部。